E05410 - SEMI E54.10 - in-situパーティクルモニターデバイスのためのセンサ/アクチュエータネットワーク特定デバイスモデルの仕様 Revision:SEMI E54.10-0600 (Reapproved 1106) - Superseded 1 This Specification does not

1  This Specification does not define any new behavior required of the equipment other than that necessary for retrieving information describing equipment configuration

UPW is used extensively in the production of semiconductor devices for all wet-processing steps

which is based on the analysis of the international GRR experiment

SEMI E47-0301 (technical revision)

本仕様はSEMIセンサ／アクチュエータネットワーク（SAN）スタンダードの一部であり，PROFINETスタンダードを基本とした特定の通信プロトコルを定義する。本ネットワーク通信スタンダード（NCS）をSEMIセンサ／アクチュエータネットワーク・スタンダード・セットおよびPROFINETスタンダードと合わせると，半導体製造装置においてネットワーク化されたデバイスの既成の相互運用性に対する業界特有のソリューションを提供するオープン・スタンダードが完全かつ明瞭に定義される。

E05410 - SEMI E54.10 - in-situパーティクルモニターデバイスのためのセンサ/アクチュエータネットワーク特定デバイスモデルの仕様 Revision:SEMI E54.10-0600 (Reapproved 1106) - Superseded 1 This Specification does notglobal Information & Control Technical Committee2011912global Audits and Reviews Subcommittee201111www. semiviews. org www. semi. org20005200611 SEMI E54 : SEMI In Situ Referenced SEMI Standards SEMI E39 Object Services Standard: Concepts, Behavior, and Services SEMI E54 Sensor Actuator Network Standard SEMI E54. 1 Standard for Sensor Actuator Network Common Device Model